[发明专利]一种人工种植韭菜方法

摘要

本发明涉及农作物种植领域，具体的是一种人工种植韭菜方法，包括以下步骤：育苗：将韭菜种子先经过紫外线杀菌，再在磁场环境下浸泡于浸种水中4‑6h，得到发芽韭菜种子，再将所述发芽韭菜种子撒播在苗床上，在其表面撒播一层草木灰，草木灰厚度为2‑3mm，最终得到韭菜苗；移栽：韭菜苗的高度达到10‑15cm时，将所述韭菜苗移栽至大田，大田内挖种植穴，所述种植穴深度为5‑10cm，相互间隔为10‑20cm。规范化韭菜种植流程，提高韭菜产出的质量和产量，生产出的韭菜香味足，水分含量多，营养丰富，吸收营养更容易，确实达到天然，绿色，安全，健康。

主权项

一种人工种植韭菜方法，其特征在于，包括以下步骤：1）育苗：将韭菜种子先经过紫外线杀菌，再在磁场环境下浸泡于浸种水中4‑6h，得到发芽韭菜种子，再将所述发芽韭菜种子撒播在苗床上，在其表面撒播一层草木灰，草木灰厚度为2‑3mm，最终得到韭菜苗；2）移栽：韭菜苗的高度达到10‑15cm时，将所述韭菜苗移栽至大田，大田内挖种植穴，所述种植穴深度为5‑10cm，相互间隔为10‑20cm；3）浇水：间隔6‑8天，每穴浇水25‑40ml；4）施肥：每亩施有机肥700‑750Kg和磷酸二氢钾3‑8Kg，每隔10‑15天施肥一次；5）采收：韭菜苗的高度达到35～50cm时进行采收，采收时保持所述韭菜地表根茬的高度大于3‑5cm。