[发明专利]一种双向致动力输出形状记忆合金及其制备方法有效
| 申请号： | 201610375042.2 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN105840701B | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 温中蒙;禹超;苏杰 | 申请（专利权）人： | 尔智机器人（上海）有限公司 |
| 主分类号： | F16F1/02 | 分类号： | F16F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双向致动力输出形状记忆合金及其制备方法，其中双向致动力输出形状记忆合金的制备方法，包括提供单向形状记忆合金；在所述单向形状记忆合金的预设区域沉积镀膜，所述镀膜的热膨胀系数与所述单向形状记忆合金的热膨胀系数不同。有本技术方案的镀膜可以利用PVD、CVD或者原子层沉积法等成熟技术实现，加工难度低，成本低；镀膜工艺与微制造工艺兼容性好，有利于在微机电系统中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双向 动力 输出 形状 记忆 合金 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种双向致动力输出形状记忆合金的制备方法，其特征在于，包括：提供单向形状记忆合金，所述单向形状记忆合金的厚度为100‑150微米；在所述单向形状记忆合金的预设区域沉积镀膜，所述镀膜的热膨胀系数与所述单向形状记忆合金的热膨胀系数不同；镀膜为SiO2，所述镀膜的厚度为4‑8微米，在150‑300℃下，采用PVD法进行沉积。
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