[发明专利]一种双向致动力输出形状记忆合金及其制备方法有效
| 申请号： | 201610375042.2 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN105840701B | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 温中蒙;禹超;苏杰 | 申请（专利权）人： | 尔智机器人（上海）有限公司 |
| 主分类号： | F16F1/02 | 分类号： | F16F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双向 动力 输出 形状 记忆 合金 及其 制备 方法 | ||
1.一种双向致动力输出形状记忆合金的制备方法，其特征在于，包括：
提供单向形状记忆合金，所述单向形状记忆合金的厚度为100-150微米；
在所述单向形状记忆合金的预设区域沉积镀膜，所述镀膜的热膨胀系数与所述单向形状记忆合金的热膨胀系数不同；
镀膜为SiO2，所述镀膜的厚度为4-8微米，在150-300℃下，采用PVD法进行沉积。
2.如权利要求1所述的双向致动力输出形状记忆合金的制备方法，其特征在于，所述镀膜的热膨胀系数小于所述单向形状记忆合金的热膨胀系数。
3.如权利要求1所述的双向致动力输出形状记忆合金的制备方法，其特征在于，单向形状记忆合金为镍钛合金、铜基单向形状记忆合金或者铁基单向形状记忆合金。
4.一种双向致动力输出形状记忆合金，其特征在于，包括：
单向形状记忆合金，所述单向形状记忆合金的厚度为100-150微米；
镀膜，所述镀膜粘附于所述单向形状记忆合金的预设区域，且所述镀膜的热膨胀系数与所述单向形状记忆合金的热膨胀系数不同；
所述镀膜为在150-300℃下，采用PVD法进行沉积得到的SiO2，所述镀膜的厚度为4-8微米。
5.如权利要求4所述的双向致动力输出形状记忆合金，其特征在于，所述镀膜的热膨胀系数小于所述单向形状记忆合金的热膨胀系数。
6.如权利要求4所述的双向致动力输出形状记忆合金，其特征在于，单向形状记忆合金为镍钛合金、铜基单向形状记忆合金或者铁基单向形状记忆合金。
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