[发明专利]线性扫描溅射系统和方法

摘要

一种溅射系统，其具有带输入端口和输出端口的处理室，和定位在所述处理室的壁上的溅射靶。可动的磁体配置被定位在所述溅射靶的后面并且在所述靶的后面往复地滑动。输送机以恒定速度连续地运输基片经过所述溅射靶，使得在任意给定时刻，若干基片在前缘和后缘之间面对所述靶。所述可动的磁体配置以至少是所述输送机的所述恒定速度几倍的速度滑动。旋转区域被限定在靶的所述前缘和后缘的后面，其中所述磁体配置当其进入所述旋转区域时减速、且当其在所述旋转区域内调转滑动方向时加速。

主权项

1.溅射系统，包括：处理室，其具有输入端口和输出端口；溅射靶，其被定位在所述处理室的壁上，并且具有定位在所述输入端口的那侧上的前缘和定位在所述输出端口的那侧上的后缘；可动的磁体配置，其被定位在所述溅射靶的后面并且在所述前缘和所述后缘之间往复地滑动；大气中的输送机，其连续地将基片成多列和多行地带入所述系统；输送机，其以恒定速度连续地运输成多列和多行的多个基片经过低真空进料锁气室、高真空进料锁气室，并且在所述处理室中，使得在任意给定时刻，若干基片在所述前缘和所述后缘之间面对所述靶，使得当所述输送机在所述溅射靶的下面连续地运输基片时若干基片能同时被处理，其中多个基片并排地垂直于输送机的运动方向布置；并且其中每个基片具有在行进方向上定义的长度(Ls)，并且其中所述靶具有在基片行进方向上定义的长度(Lt)，并且其中靶的长度(Lt)是基片的长度(Ls)的若干倍；所述磁体配置以至少是基片的运动速度几倍的速度被来回地线性扫描，磁体配置重复地在基片行进方向上并然后在反方向上被扫描；其中所述磁体配置在其行程的大多数期间以恒定速度被移动，然而，当磁体配置接近其行程的终点时，所述磁体配置被减速，并且当磁体配置在相反方向上开始其行程时，所述磁体配置加速直至其达到该恒定速度。