[发明专利]暴露高能晶面纳米片自组装的三维网络结构α‑Fe2O3的制备方法有效
| 申请号： | 201610373078.7 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN106044863B | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 杨合情;马勇;袁煜昆;石倩;张芳娟;裴翠锦 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | C01G49/06 | 分类号： | C01G49/06;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 西安永生专利代理有限责任公司61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α‑Fe2O3的制备方法，该方法以聚乙烯吡咯烷酮为吸附剂和燃料，采用简单的溶液快速热反应法，一步反应即可得到暴露晶面的由纳米片自组装而成的三维网络结构的α‑Fe2O3。本发明方法简单易行，成本低廉，生产周期短，产率高，重复性和一致性好，所制备的α‑Fe2O3结晶性好，且是由暴露清洁的没有吸附剂的高活性晶面纳米片自组装而成的三维网络结构，纳米片的厚度约为30nm，在气敏传感器、吸附、光催化和锂离子电池等领域具有较好的应用前景和经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 暴露 高能 纳米 组装 三维 网络 结构 fe sub 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α‑Fe2O3制备方法，其特征在于：将Fe(NO3)3·9H2O、聚乙烯吡咯烷酮、去离子水按质量比为1:0.2～1:3～7混合均匀，将所得混合液铺展到清洗干净的硅片表面，在空气气氛中350～700℃保温5～15分钟，自然冷却至常温，得到暴露晶面纳米片自组装的三维网络结构α‑Fe2O3。
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