[发明专利]带基片加热和气氛处理的匀胶机有效
| 申请号： | 201610370710.2 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105964488B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 黄芳;袁国栋;李晋闽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C9/14;B05C11/08 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种带基片加热和气氛处理的匀胶机，包括：一圆筒；一立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部；一升降支架位于立轴上，该升降支架的上端为置物台，该升降支架可以旋转；一进气管道从圆筒外部通入圆筒内；一活动喷嘴的一端与进气管道相连，另一端对准该升降支架上端的置物台；一立柱固定在圆筒内的一侧，该立柱的上端连接有一支臂，该支臂的另一端与活动喷嘴相连，通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向；一泵，该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接，用于抽、放气体，保证样品的吸附和脱吸附；一顶盖扣置于圆筒的上方。本发明能在气氛处理的情况下在基片上旋涂薄膜，从而能够实现边化学反应边旋涂薄膜的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 带基片 加热 气氛 处理 匀胶机 | ||
【主权项】：
1.一种带基片加热和气氛处理的匀胶机，包括：/n一圆筒；/n一立轴，该立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部；/n一升降支架，该升降支架位于立轴上，该升降支架的上端为置物台，该升降支架可以旋转；其中该置物台具有加热功能，置物台旋转频率可控，可连续变频或混沌变频；/n一进气管道，该进气管道从圆筒外部通入圆筒内；/n一活动喷嘴，该活动喷嘴的一端与进气管道相连，另一端对准该升降支架上端的置物台；/n一立柱，该立柱固定在圆筒内的一侧，该立柱的上端连接有一支臂，该支臂的另一端与活动喷嘴相连，通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向；/n一泵，该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接，用于抽、放气体，保证样品的吸附和脱吸附；/n一顶盖，该顶盖扣置于圆筒的上方。/n
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