[发明专利]基于双波面干涉条纹阵列的大面积光学轮廓测量标定方法有效

专利信息
申请号: 201610345429.3 申请日: 2016-05-23
公开(公告)号: CN105841633B 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 余学才;王晓庞;肖景天;任华西 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227 代理人: 周永宏,王伟
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列的大面积光学轮廓测量标定方法;其包括获取经待测量物体光学轮廓所调制的双波面干涉条纹阵列图像,构建定标模型;根据定标模型对对多个截面上采用定标板定标,确定定标参数;根据定标参数绘制变化曲线,并构建拟合函数进行拟合处理;依次将相邻干涉条纹垂直于条纹方向上的移动距离代入拟合函数得到每条干涉条纹的定标参数;根据干涉条纹的图像数据和定标参数还原出每个截面处的真实形状,实现对待测量物体光学轮廓测量的标定。本发明通过构建双波面干涉条纹阵列图像定标模型,并采用拟合的方式确定每条干涉条纹的定标模型中的定标参数,大大减少了标定次数,简便高效的实现大面积光学轮廓测量标定。
搜索关键词: 基于 双波面 干涉 条纹 阵列 大面积 光学 轮廓 测量 标定 方法
【主权项】:
一种基于双波面干涉条纹阵列的大面积光学轮廓测量标定方法,其特征在于,包括以下步骤:A、获取经待测量物体光学轮廓所调制的双波面干涉条纹阵列图像,根据标定板图像坐标系和世界坐标系的映射关系构建定标模型;B、将一条干涉条纹对应待测量物体的一个截面,根据步骤A中的定标模型对多个截面上采用定标板定标,确定定标参数;C、根据步骤B中得到的多个截面上的定标参数与垂直于条纹方向上移动距离的关系绘制变化曲线,并构建拟合函数进行拟合处理;D、依次将垂直于条纹方向上移动距离代入步骤C中构建的拟合函数,得到每条干涉条纹的定标参数;E、根据每条干涉条纹的图像数据和定标参数,得到每条干涉条纹对应截面的形状数据,实现对待测量物体光学轮廓测量的标定。
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