[发明专利]基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法有效
申请号: | 201610343470.7 | 申请日: | 2016-05-23 |
公开(公告)号: | CN105865369B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 余学才;肖景天;任华西;王晓庞 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 周永宏;王伟 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 基于 双波面 干涉 条纹 阵列 大面积 光学 轮廓 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置,其特征在于,包括:半导体激光器,用于发射相干激光;透镜,用于接收半导体激光器发射的相干激光并进行转换;所述相干激光和透镜转换后的光束均为高斯光束;平行平板组,用于接收透镜转换后的光束并进行变换,将变换后的光束投射至待测量物体表面具体为:透镜转换后的光束穿过第一平行平板后投射在第二平行平板,经第二平行平板的两个表面反射后再由第一平行平板的一个表面进行反射,从而投射至待测量物体表面;所述平行平板组包括与相干激光入射方向呈夹角放置的第一平行平板和与相干激光入射方向垂直放置的第二平行平板;CCD相机,用于接收待测量物体表面形成的干涉条纹阵列图像;及数据处理单元,用于对CCD相机接收到的干涉条纹阵列图像进行处理,完成待测量物体光学轮廓测量具体为:根据干涉条纹阵列图像提取待测量物体高度信息图像,通过定量分析畸变条纹的畸变程度,得到待测量物体高度信息,重建待测量物体表面三维轮廓。
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