[发明专利]用于使用双波形进行离子隔离的系统和方法有效
| 申请号： | 201610309059.8 | 申请日： | 2016-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN106158571B | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | P·M·雷米斯;M·W·森柯;J·C·施瓦茨 | 申请（专利权）人： | 萨默费尼根有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00;H01J49/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 姬利永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种质谱仪包含射频离子阱；以及控制器。所述控制器经配置以：使离子群注入到所述射频离子阱中；在第一持续时间内将第一隔离波形供应给所述射频离子阱，且在第二持续时间内将第二隔离波形供应给所述射频离子阱。所述第一隔离波形具有在第一质荷比处的至少第一宽陷波，且所述第二隔离波形具有在所述第一质荷比处的至少第一窄陷波。所述第一和第二隔离波形可有效地隔离一个或多个前体离子与所述离子群。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 波形 进行 离子 隔离 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种质谱仪，其包括：射频离子阱；以及控制器，其经配置以：使离子群注入到所述射频离子阱中；在第一持续时间内将第一隔离波形供应给所述射频离子阱，所述第一隔离波形具有在第一质荷比处的至少第一宽陷波；以及在第二持续时间内将第二隔离波形供应给所述射频离子阱，所述第二隔离波形具有在所述第一质荷比处的至少第一窄陷波；所述第一宽陷波和所述第一窄陷波具有q值，其相差不大于2倍；所述第一隔离波形和所述第二隔离波形在振幅上基本上相同；以及所述第一和第二隔离波形可有效地隔离一个或多个前体离子与所述离子群。
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