[发明专利]一种直接利用工业级三氧化钼制备纳米级钼粉的方法在审
| 申请号： | 201610293735.7 | 申请日： | 2016-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN105710390A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 张国华;王璐;周国治 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | B22F9/28 | 分类号： | B22F9/28;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种直接利用工业级三氧化钼制备纳米级钼粉的方法。首先是将工业级三氧化钼置于高温炉中，在950‑1500℃、氩气为载气、反应气体为氢气的条件下，通过调整不同的载气和反应气的流速，最终可以收集到纳米级的超细钼粉。将得到的产物在氢气气氛下，100℃进行烘干，即可得纯净钼粉。在反应过程中，由于高温条件下，三氧化钼挥发为气态，气态的三氧化钼和氢气在高温下反应，反应速度很快，能在短时间内制备纳米级的产物。本发明采用工业级三氧化钼在高温条件下和氢气反应，免去三氧化钼的提纯，又可以制备出纯度较高的超细钼粉，成本较低，工艺简单，易于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 直接 利用 工业 氧化钼 制备 纳米 级钼粉 方法 | ||
【主权项】：
一种直接利用工业级三氧化钼制备纳米级钼粉的方法；其特征在于所用原材料为工业级三氧化钼，将其挥发为气态后与还原气体接触，在高温炉中进行还原反应，得到纳米级材料，得到的产物由于含水，需要在氢气气氛下，100℃进行烘干，即可得纯净钼粉，所述工艺包括以下步骤：1)将工业级三氧化钼在温度为950‑1500℃高温挥发成气态三氧化钼；2)挥发出来的气态三氧化钼与还原气体接触直接发生反应，三氧化钼被迅速还原为纳米级超细钼粉。
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