[发明专利]一种TiN-Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201610278260.4 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN105862001B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 李德军;许双志;董磊;顾汉卿;万荣欣 申请(专利权)人: 天津师范大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16;A61L27/30;A61L27/50;A61L27/54
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 代理人: 朱红星
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种TiN‑Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用。它是由磁控共溅射沉积得到的复合薄膜,溅射过程中溅射过程中保持一定的基底温度,获得的厚度在0.5um~1um之间。通过实验调节制备过程的基底负偏压,得到的TiN‑Ag纳米复合涂层相比基底硬度提高明显,Ag元素均匀分布在TiN膜中,接触角明显低于没有掺杂Ag的TiN薄膜,亲水性好,并且细胞相容性得到提高,有望用于改善钛合金在生物医学上的应用。本发明所述的方法形成的材料结构稳定,方法可重复,制备条件可控。
搜索关键词: 一种 tin ag 纳米 复合 涂层 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种TiN‑Ag纳米复合涂层,其特征在于它是由TiN化合物靶和Ag靶通过磁控共溅射复合而成,得到的厚为1‑1.5μm的纳米复合涂层,其利用Bruker D8a型X射线衍射仪(XRD)对样品进行物相及晶体结构分析,扫描范围10°~80°,高角2θ角扫描范围是10deg.~80deg.,扫描步长为0.01deg.,薄膜中同时出现TiN和Ag的衍射峰,即TiN(111)、TiN (200)、Ag(111)和Ag(200),薄膜的表面较为粗糙,断面SEM图显示结构较为紧凑,XPS结果显示Ag以单质的形态存在,Ti元素除了和N形成价键外,还有Ti‑O键结合,结合能分别为 458.0eV和464.2eV,氧元素来源于薄膜表面氧元素杂质基团;所述TiN‑Ag纳米复合涂层采用以下方法制备:同时溅射TiN和Ag靶材,TiN靶使用射频电流电源,Ag靶使用脉冲直流电源,其中复合膜中Ag原子数和质量占比分别为21.37%和37.97%;在沉积薄膜之前,分别将直径为50.8mm的圆形TiN靶材和Ag靶材分别安装在射频和脉冲靶位;其中经抛光的钛合金先依次用丙酮、乙醇超声清洗15分钟,吹干后立即送入真空沉积室中;具体步骤为:(1)先后通过机械泵和分子泵将腔室内抽至优于4×10‑4Pa的高真空后,先用600eV,5mA的Ar+对样品进行清洗15min,随后降低负偏压至‑100V,进行对靶材预溅射15min,沉积薄膜时,调节氩气流量为40sccm并精确控制每个样品的溅射时间;(2)在抛光的钛合金上沉积复合膜时维持优于4×10‑4Pa的高真空,气压值通过真空显示计显示,沉积过程中溅射气体选用高纯99.99%Ar,用流量控制器控制其流量为40标准毫升/分钟;沉积过程中总的工作气压为5.0×10‑1 Pa;(3)实验控制共溅射时间为4h,基底负偏压为‑100V~‑200V,TiN功率为120W,Ag的功率为15W,基底温度为300℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津师范大学,未经天津师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610278260.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top