[发明专利]一种TiN-Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用有效
申请号: | 201610278260.4 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN105862001B | 公开(公告)日: | 2019-04-05 |
发明(设计)人: | 李德军;许双志;董磊;顾汉卿;万荣欣 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16;A61L27/30;A61L27/50;A61L27/54 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种TiN‑Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用。它是由磁控共溅射沉积得到的复合薄膜,溅射过程中溅射过程中保持一定的基底温度,获得的厚度在0.5um~1um之间。通过实验调节制备过程的基底负偏压,得到的TiN‑Ag纳米复合涂层相比基底硬度提高明显,Ag元素均匀分布在TiN膜中,接触角明显低于没有掺杂Ag的TiN薄膜,亲水性好,并且细胞相容性得到提高,有望用于改善钛合金在生物医学上的应用。本发明所述的方法形成的材料结构稳定,方法可重复,制备条件可控。 | ||
搜索关键词: | 一种 tin ag 纳米 复合 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种TiN‑Ag纳米复合涂层,其特征在于它是由TiN化合物靶和Ag靶通过磁控共溅射复合而成,得到的厚为1‑1.5μm的纳米复合涂层,其利用Bruker D8a型X射线衍射仪(XRD)对样品进行物相及晶体结构分析,扫描范围10°~80°,高角2θ角扫描范围是10deg.~80deg.,扫描步长为0.01deg.,薄膜中同时出现TiN和Ag的衍射峰,即TiN(111)、TiN (200)、Ag(111)和Ag(200),薄膜的表面较为粗糙,断面SEM图显示结构较为紧凑,XPS结果显示Ag以单质的形态存在,Ti元素除了和N形成价键外,还有Ti‑O键结合,结合能分别为 458.0eV和464.2eV,氧元素来源于薄膜表面氧元素杂质基团;所述TiN‑Ag纳米复合涂层采用以下方法制备:同时溅射TiN和Ag靶材,TiN靶使用射频电流电源,Ag靶使用脉冲直流电源,其中复合膜中Ag原子数和质量占比分别为21.37%和37.97%;在沉积薄膜之前,分别将直径为50.8mm的圆形TiN靶材和Ag靶材分别安装在射频和脉冲靶位;其中经抛光的钛合金先依次用丙酮、乙醇超声清洗15分钟,吹干后立即送入真空沉积室中;具体步骤为:(1)先后通过机械泵和分子泵将腔室内抽至优于4×10‑4Pa的高真空后,先用600eV,5mA的Ar+对样品进行清洗15min,随后降低负偏压至‑100V,进行对靶材预溅射15min,沉积薄膜时,调节氩气流量为40sccm并精确控制每个样品的溅射时间;(2)在抛光的钛合金上沉积复合膜时维持优于4×10‑4Pa的高真空,气压值通过真空显示计显示,沉积过程中溅射气体选用高纯99.99%Ar,用流量控制器控制其流量为40标准毫升/分钟;沉积过程中总的工作气压为5.0×10‑1 Pa;(3)实验控制共溅射时间为4h,基底负偏压为‑100V~‑200V,TiN功率为120W,Ag的功率为15W,基底温度为300℃。
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