[发明专利]一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版，包括：基板；多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。本发明还公开一种彩色滤光片基板的制备方法。本发明所提供的掩膜版在遮光部与透光区域之间设置两个半透光部，在使用该掩膜版进行曝光时，因对应半透光部的黑色光刻胶材料层的曝光量小于对应透光区域的黑色光刻胶材料层的曝光量，使得对应半透光部的黑色光刻胶材料层在显影时的溶解度介于对应透光区域及遮光部的溶解度之间，从而起到一个缓冲的作用，易于通过控制显影时间提高显影精度。

主权项

1.一种彩色滤光片基板的制备方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵的步骤，包括：在所述衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶材料，形成黑色光刻胶材料层；采用掩膜版对所述黑色光刻胶材料层进行曝光；进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵；其中，所述掩膜版包括：基板；多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域；其中，所述黑色光刻胶材料层经过曝光后，分为第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区，所述第一曝光区对应所述掩膜版的遮光部，所述第二曝光区对应所述掩膜版的半透光部，所述第三曝光区对应所述掩膜版的透光区域，其中所述第三曝光区、第二曝光区及第一曝光区的曝光量依次减小；其中，在显影时，所述第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区在同等条件下的溶解度依次减小；其中，所述进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵具体包括：将曝光后的衬底基板至于显影液中，以将所述第一曝光区及第二曝光区完全去除，留下所述第三曝光区，以使所述第三曝光区域的宽度等于所述透光区域的宽度。