[发明专利]一种电场沉积去除水硬度的装置在审
| 申请号： | 201610263541.2 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107555617A | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 刘显军 | 申请（专利权）人： | 上海纳珂科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F5/00 | 分类号： | C02F5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200082 上海市杨*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电场沉积去除水硬度的装置，包括反应箱和极板支撑块，极板支撑块的一侧设置有阴极板，阴极板的一端设置有阳极板，阳极板的一侧设置有刮刀板，外支架的边侧设置有刮刀架；刮刀板的表面设置有液体陶瓷涂层。本发明将钙镁等阳性带电离子吸附于阴极板聚集，而阴性离子聚合在阳极板，当垢层聚合到一定厚度时，外施加电场会衰减，通过检测电流衰减率达到设定信号后控制电源阴、阳极切换，将钙镁离子垢泥从阴极板表面脱离沉淀；附加措施是刮刀上下运动进行阴极板表面垢层刮除，可以调节刮刀板不同的刮力，适应不同的需求；刮刀板的表面设置有液体陶瓷涂层，使得刮刀板耐腐蚀而且能够提高使用耐久性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电场 沉积 去除 硬度 装置 | ||
【主权项】：
一种电场沉积去除水硬度的装置，其特征在于，包括反应箱（1）且所述反应箱（1）底部设置有极板支撑块（2），所述极板支撑块（2）的一侧设置有阴极板（3），所述阴极板（3）的一端设置有阳极板（4），所述阳极板（4）的一侧设置有刮刀板（5），所述刮刀板（5）的一侧设置有压板（6），所述压板（6）的一侧设置有外支架（8），所述外支架（8）的内侧设置有刮刀架（9）；所述刮刀板（5）的表面设置有液体陶瓷涂层。
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