[发明专利]半色调相移掩模坯和半色调相移掩模

摘要

本发明提供半色调相移掩模坯，包括透明基板和半色调相移膜，该半色调相移膜由具有至少90at％的Si+N+O含量、30‑70at％的Si含量、30‑60at％的N+O含量和30at％以下的O含量的硅基材料组成，并且具有70nm以下的厚度。该半色调相移膜对于掩模图案加工足够薄，在曝光于亚200nm辐照时经历最小的图案尺寸变动劣化并且保持必要的相移和透射率。

主权项

半色调相移掩模坯，包括透明基板和其上的半色调相移膜，相对于波长200nm以下的光，该半色调相移膜具有150°‑200°的相移和3％‑30％的透射率，其中所述半色调相移膜为单层或多层膜，每一层主要地包括硅和氮并且任选地包括氧，该半色调相移膜为单层时，整个单层由硅基材料组成，或者该半色调相移膜为多层膜时，其厚度的至少60％由硅基材料组成，所述硅基材料具有至少90at％的硅、氮和氧的总含量、30‑70at％的硅含量、30‑60at％的氮和氧的总含量、30at％以下的氧含量和1at％以下的过渡金属含量，并且所述半色调相移膜具有70nm以下的厚度。