[发明专利]掩膜板清洗装置及清洗方法有效
申请号: | 201610182823.X | 申请日: | 2016-03-28 |
公开(公告)号: | CN105607414B | 公开(公告)日: | 2019-09-24 |
发明(设计)人: | 陈中明 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜板清洗装置及清洗方法,该装置包括:载台移动导轨(10)、设于载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于载台移动导轨(10)上方且与检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、设于检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备,能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污,提升掩膜板的清洗效率,提高生产稼动率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板清洗装置,其特征在于,包括:载台移动导轨(10)、设于所述载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于所述载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于所述载台移动导轨(10)上方且与所述检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、分别与所述检测部横梁(40)两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁(40)的两检测部立柱(43)、分别与所述清洗部横梁(50)两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁(50)的两清洗部立柱(53)、设于所述检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于所述检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于所述清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与所述清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备;所述检测部导轨(41)与所述清洗部导轨(51)平行,所述检测部导轨(41)与所述载台移动导轨(10)垂直;所述掩膜板载台(20)用于放置掩膜板(30),通过所述检测相机(42)沿所述检测部导轨(41)滑动配合所述掩膜板载台(20)沿所述载台移动导轨(10)滑动,确定掩膜板(30)的污染位置;通过所述清洗机构(60)沿所述清洗部导轨(51)滑动、所述掩膜板载台(20)沿所述载台移动导轨(10)滑动、结合所述清洗机构(60)沿竖直方向的升降,对所述掩膜板(30)的污染位置进行局部清洗;所述清洗机构(60)包括:悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的马达(61)、设于所述马达(61)下方的药液槽(63)、连接所述马达(61)与所述药液槽(63)的升降杆(62)、设于所述药液槽(63)下方的滴头(65)、设于所述滴头(65)上的电磁阀(66)、以及设于所述滴头(65)下方的转动无尘布(67)和测高传感器(64)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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