[发明专利]掩膜板清洗装置及清洗方法

说明书

本发明提供一种掩膜板清洗装置及清洗方法，该装置包括：载台移动导轨(10)、设于载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于载台移动导轨(10)上方且与检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、设于检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板清洗装置及清洗方法。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。

液晶显示面板的制程可划分为三个阶段：第一阶段为阵列制程(Array)，即把薄膜晶体管制作在玻璃基板上；第二阶段为组合制程(Cell)，即把彩色滤光基板与薄膜晶体管基板对组，并在中间灌入液晶分子；第三阶段为模组制程(LCM)，即在组合后的面板背后加上背光组件及外接集成电路板，完成液晶显示面板的制作。在Array制程中，需要先在玻璃基板的表面形成金属薄膜层，并在金属薄膜层上涂布光阻层，在曝光(Exposure)制程将玻璃基板套上具有特定图案的光罩后对玻璃基板进行曝光，在显影(Developer)制程利用显影液去除被光照射到的光阻(正性光阻)或未被光照射到的光阻(负性光阻)，在蚀刻(Etching)制程蚀刻未被光阻覆盖的金属薄膜，最后去除剩余的光阻层，使光罩上的薄膜晶体管的电路图案形成在玻璃基板上。

在液晶显示面板制程中，曝光是一个关键制程，掩膜板(Mask)是曝光的一个基本工具。掩膜板在使用过程中常常会产生脏污导致品质不良，特别是在接近式曝光过程中，掩膜板脏污会导致曝光出现共同性缺陷，对产品良率影响很大，因此掩膜板的清洗是一个必不可少的作业。

现有技术在清洗掩膜板时，常用的方法是先用氢氧化钾(KOH)溶液冲洗，然后在掩膜板自动光学检测设备(Mask AOI)中检查，检查结果不合格时，再次投入氢氧化钾溶液中反复清洗，直至检查结果合格。KOH溶液对一般的无机物清洗效果较好，但是对于油污类的脏污清洗效果不佳，在实际使用过程中，常常发生油污等有机物污染掩膜板的情况，此时往往需要多次反复清洗掩膜板，对生产稼动率造成较大的损失。四甲基氢氧化铵溶液对有机物的溶解能力非常好，但是成本较高，不适于大量使用，如果用手擦拭则容易造成掩膜板膜面损伤，且目视无法准确的定位，清洁效率较低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜板清洗装置，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。

本发明的目的还在于提供一种掩膜板清洗方法，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。