[发明专利]薄膜沉积组件及薄膜沉积装置在审
| 申请号： | 201610177201.8 | 申请日： | 2016-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN105803404A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 沐俊应 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;武岑飞 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种薄膜沉积组件，其包括：相对设置的沉积基板(10)和靶材承载盘(20)；设置于靶材承载盘(20)朝向沉积基板(10)的表面上且沿第一方向间隔排列的多个靶材(40)；设置于沉积基板(10)和靶材承载盘(20)之间的多个激光照射源组(30)，激光照射源组(30)与靶材(40)一一对应，每个激光照射源组(30)包括沿第二方向间隔排列的多个激光照射源(31)；其中，第一方向与第二方向相交。本发明还公开了一种薄膜沉积装置。本发明的薄膜沉积组件及薄膜沉积装置，其有效沉积区域大，从而能够应对大尺寸基板大批量生产需求，并且通过设计激光照射源点排布及靶材承载盘和/或沉积基板在沉积薄膜过程中的移动方式，提高沉积薄膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 组件 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜沉积组件，其特征在于，包括：相对设置的沉积基板(10)和靶材承载盘(20)；设置于所述靶材承载盘(20)朝向所述沉积基板(10)的表面上且沿第一方向间隔排列的多个靶材(40)；设置于所述沉积基板(10)和所述靶材承载盘(20)之间的多个激光照射源组(30)，所述激光照射源组(30)与所述靶材(40)一一对应，每个激光照射源组(30)包括沿第二方向间隔排列的多个激光照射源(31)；其中，所述第一方向与所述第二方向相交。
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