[发明专利]用于抛光钴的浆液以及衬底抛光方法

摘要

本发明提供一种用于抛光钴的浆液以及衬底抛光方法。所述浆液包含：经配置以执行抛光的研磨剂，所述研磨剂包括氧化锆颗粒；经配置以分散研磨剂的分散剂；以及经配置以加速抛光的抛光加速剂。所述抛光加速剂包含含有胺基和羧基的有机酸。依据根据示范性实施例的浆液，钴的抛光速率可增加而无需使用氧化剂，且可抑制钴的表面上的局部腐蚀缺陷。

主权项

1.一种用于抛光钴的浆液，包括：研磨剂，经配置以执行抛光，所述研磨剂包括氧化锆颗粒；分散剂，经配置以分散所述研磨剂；以及抛光加速剂，其以两性离子的形式存在于所述浆液中，且经配置以加速所述抛光，其中所述分散剂包括阳离子、阴离子以及非离子聚合物材料中的至少一者，其中所述分散剂相对于所述用于抛光钴的浆液的总重量以0.01wt％到5wt％的范围包含，其中所述抛光加速剂包括以下各项中的至少一者：精胺酸、组胺酸、赖胺酸、天冬胺酸、天冬酰胺酸、谷氨酸、麸酰胺酸、丙胺酸、甘胺酸、白胺酸、异白氨酸、缬胺酸、丝胺酸以及酪氨酸，其中所述抛光加速剂相对于所述用于抛光钴的浆液的总重量以0.1wt％到2wt％的范围包含，其中所述浆液中不包括用以氧化所述钴的氧化剂以及用以抑制所述钴发生腐蚀的腐蚀抑制剂，其中所述钴对二氧化硅的抛光选择性的值为20或大于20。