[发明专利]一种石墨烯薄膜的转移方法有效

专利信息
申请号: 201610155944.5 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105819431B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 王炜;谭化兵;刘海滨;杨军 申请(专利权)人: 无锡格菲电子薄膜科技有限公司
主分类号: C01B32/186 分类号: C01B32/186
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 代理人: 张秋云
地址: 214000 江苏省无锡市惠山经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种石墨烯薄膜的转移方法,是通过将生长好石墨烯的衬底,与转移目标衬底粘结后,放置在湿氧环境中充分氧化。随着氧化的进行,在石墨烯与衬底之间逐渐形成了氧插层,降低了石墨烯与其生长衬底的结合力,从而减少了石墨烯在转移过程中受其结合力的影响,提高了石墨烯转移的完整性,相应提高了转移后石墨烯的质量。本发明的有益效果为1、本发明是在剥离石墨烯与衬底之前,加入氧插层处理,降低石墨烯与衬底间的结合力,提高了转移后石墨烯的完整性。2、本发明的工艺简单,成本低廉,环境友好,十分有利于石墨烯产业化生产制备和应用。3、本发明中的湿氧坏境可以重复使用,降低了资源消耗。
搜索关键词: 一种 石墨 薄膜 转移 方法
【主权项】:
一种石墨烯薄膜的转移方法,其特征在于,包括以下步骤:1)通过化学气相沉积法,在金属衬底上生长石墨烯薄膜,得到生长好石墨烯薄膜的金属衬底;2)将步骤1)得到的生长好石墨烯薄膜的金属衬底,与转移目标衬底进行粘合,得到粘合好的转移目标衬底/石墨烯/生长衬底复合薄膜;3)将步骤2)得到的复合薄膜,放置在湿氧环境中进行充分氧化,得到转移目标衬底/石墨烯/氧插层/生长衬底复合薄膜;4)将步骤3)得到的复合薄膜,通过指定的剥离方法将生长衬底与石墨烯分离开,得到转移目标衬底/石墨烯薄膜,至此石墨烯转移完成;所述转移目标衬底为防静电保护膜或热释放胶带。
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