[发明专利]一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜

摘要

本发明公开了一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜。采用电子束光刻，制备非对称的纳米结构层。该纳米加工技术采用Bosch工艺反应离子刻蚀工艺，利用SF₆进行刻蚀，用C₄F₆生成聚合物，刻蚀钝化交替，其横向钻蚀形成扇贝状的侧壁形貌，最终获得介质纳米柱，在垂直于衬底方向沉积金属薄膜，获得“金属纳米结构‑金属薄膜”耦合结构。该亚波长尺度耦合结构超材料在可见光光谱中表现出谐波共振和暗场激发等离子共振模式，产生多共振峰窄带共振，非对称的上层纳米结构使得反射阵列对不同入射场具有灵敏的色彩响应和高反射率，因此反射阵列能够应用于彩色全息成像的全息成像膜，可实时再现物体真实的三维图像的记录和再现，真正的空间成像、色彩鲜艳，对比度，清晰度高在商品展示、影视制作、艺术创作等领域有重要应用前景。

主权项

1.一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜，其特征在于，包括：基于上层图形化金属纳米结构、中间介质层以及下层金属薄膜的表面等离子体耦合多层结构，并且上层图形化金属纳米结构以及中间介质层的尺寸大小、周期均在400‑800nm尺寸，可实现在可见光波长下的暗场共振模式及多重谐波共振模式，获得高反射率的多共振光谱，该成像膜在不同光强度及角度下产生不同色彩因此作为全息成像反射膜可代替传统感光胶膜，实现彩色全息成像。