[发明专利]一种并联结构的LED芯片及其制造方法有效
申请号: | 201610142882.4 | 申请日: | 2016-03-14 |
公开(公告)号: | CN105789400B | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 李庆;刘撰;陈立人 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/36;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种并联结构的LED芯片及其制造方法,包括衬底、位于衬底上的外延结构及位于外延结构上的P电极和N电极,外延结构依次包括N型半导体层、发光层及P型半导体层,其特征在于,外延结构之间形成有若干隔离槽,外延结构由隔离槽隔离形成若干隔离区,隔离槽包括刻蚀至衬底的第一隔离槽及刻蚀至N型半导体层的第二隔离槽,第二隔离槽位于第一隔离槽围设的区域内,N电极位于第二隔离槽内且与每个隔离区中的N型半导体层分别电性连接,P电极位于第一隔离槽内且与每个隔离区中的P型半导体层分别电性连接。本发明通过并联结构能够使LED芯片的电流均匀分布,减少了电极及引脚对出光的吸收,增加侧壁的出光,提高了LED芯片的发光亮度。 | ||
搜索关键词: | 隔离槽 外延结构 并联结构 隔离区 衬底 电性连接 刻蚀 发光层 电极 侧壁 围设 引脚 发光 制造 隔离 吸收 | ||
【主权项】:
1.一种并联结构的LED芯片,所述LED芯片包括衬底、位于衬底上的外延结构及位于外延结构上的P电极和N电极,所述外延结构依次包括N型半导体层、发光层及P型半导体层,其特征在于,所述外延结构之间形成有若干隔离槽,外延结构由所述隔离槽隔离形成若干隔离区,所述隔离槽包括刻蚀至衬底的第一隔离槽及刻蚀至N型半导体层的第二隔离槽,所述第二隔离槽位于第一隔离槽围设的区域内,所述N电极位于所述第二隔离槽内且与每个隔离区中的N型半导体层分别电性连接,所述P电极位于第一隔离槽内且与每个隔离区中的P型半导体层分别电性连接。
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