[发明专利]多压力分区抛光头的静态加压控制算法在审
申请号: | 201610133292.5 | 申请日: | 2016-03-09 |
公开(公告)号: | CN105701320A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 李弘恺;田芳馨;张欣;林达义;王同庆;李昆;路新春 | 申请(专利权)人: | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 300350 天津市津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提出一种多压力分区抛光头的静态加压控制算法,包括获取各压力分区的平均零点偏移量;根据各压力分区的平均零点偏移量,分别对各路气压传感器的测量值进行修正,并将修正后的测量值作为各路气压传感器的最终输出值;合理修正各压力分区的预设压力值,并将压力修正值作为实际参与运算的压力设定值;计算各路气压传感器的最终输出值与对应压力分区的压力设定值之间的偏差量;根据偏差量计算CMP抛光头系统的相应电气比例阀的控制量;最终实现各分区实际压力快速稳定在工艺人员预设的压力值上。本发明的控制算法简洁有效,在程序运行时大大减少了计算量,而且参数调节方便,可较好地应用于CMP工艺前后的装卸片等静态加压过程。 | ||
搜索关键词: | 压力 分区 抛光 静态 加压 控制 算法 | ||
【主权项】:
一种多压力分区抛光头的静态加压控制算法,其特征在于,包括以下步骤:分别获取所述抛光头的各压力分区的平均零点偏移量;根据所述抛光头的各压力分区的平均零点偏移量,分别对CMP抛光头系统的各路气压传感器的测量值进行修正,并将修正后的各路气压传感器的测量值作为所述各路气压传感器的最终输出值;对各压力分区的预设压力值进行修正以得到压力修正值,并将所述压力修正值作为算法内部实际参与运算的压力设定值;实时计算所述各路气压传感器的最终输出值与对应压力分区的压力设定值之间的偏差量;以及根据所述偏差量计算所述CMP抛光头系统的相应电气比例阀的控制量。
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