[发明专利]有机硅改性高抗污性不饱和聚酯树脂及其合成方法有效

专利信息
申请号: 201610126377.0 申请日: 2016-03-04
公开(公告)号: CN105622910B 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 余桐柏;印卓;符若文;卫福海 申请(专利权)人: 肇庆福田化学工业有限公司
主分类号: C08G63/547 分类号: C08G63/547;C08L67/06;C09D167/06
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 刘婉
地址: 526238 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种有机硅改性高抗污性不饱和聚酯树脂,其包括以下组分:含有机硅结构单元的柔性不饱和聚酯基体树脂R1;以及不含有机硅结构单元的刚性不饱和聚酯基体树脂R2;其中,所述柔性不饱和聚酯基体树脂R1和所述刚性不饱和聚酯基体树脂R2的重量比为0.2:1至0.5:1。本发明还提供了该树脂的合成方法。本发明的树脂既具有优良的耐水耐污性,还保留了优良的机械力学性能。
搜索关键词: 不饱和聚酯 基体树脂 不饱和聚酯树脂 有机硅改性 树脂 高抗 机硅 污性 合成 机械力学性能 耐污性 重量比 耐水 保留
【主权项】:
1.一种有机硅改性高抗污性不饱和聚酯树脂,其特征在于包括以下组分:含有机硅结构单元的柔性不饱和聚酯基体树脂R1;以及不含有机硅结构单元的刚性不饱和聚酯基体树脂R2;其中,所述柔性不饱和聚酯基体树脂R1和所述刚性不饱和聚酯基体树脂R2的重量比为0.2:1至0.5:1;所述柔性不饱和聚酯基体树脂R1的制备原料包括第一不饱和二元酸/酸酐、第一饱和二元酸/酸酐、第一多元醇、有机硅中间体、催化剂和第一活性稀释剂;所述第一不饱和二元酸/酸酐与所述第一饱和二元酸/酸酐的摩尔比为0.3:1至0.5:1;所述刚性不饱和聚酯基体树脂R2的制备原料包括第二不饱和二元酸/酸酐、第二饱和二元酸/酸酐、第二多元醇和第二活性稀释剂;所述第二不饱和二元酸/酸酐与所述第二饱和二元酸/酸酐的摩尔比为1:1至2:1;所述有机硅中间体在所述柔性不饱和聚酯基体树脂R1中的重量含量为9‑13%;且所述有机硅中间体为含羟基或烷氧基的有机硅树脂;所述不饱和聚酯树脂的合成步骤如下:(1)合成含有机硅结构单元的柔性不饱和聚酯基体树脂R1;(2)合成不含有机硅结构单元的刚性不饱和聚酯基体树脂R2;(3)将所述柔性不饱和聚酯基体树脂R1和所述刚性不饱和聚酯基体树脂R2混合均匀。
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