[发明专利]快速二次元光学测量装置有效
申请号: | 201610110174.2 | 申请日: | 2016-02-29 |
公开(公告)号: | CN105547156B | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 唐翔;黄海瑞;陶金明;汪旭东;闫飞;彭卫军;杨晓宁;秦学琴;赵伟 | 申请(专利权)人: | 苏州精创光学仪器有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
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地址: | 215334 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于光学检测领域,尤其涉及一种快速二次元光学测量装置,包括测量框架,测量框架的底部设有光源,待测样品位于光源上方,与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件,多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像,取像元件连接图像处理元件,测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构,因而本发明测量装置可以根据待测样品的尺寸大小情况,将测量框架上部的取像元件调节到合适位置后,多个取像元件便可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像,然后由图像处理元件根据接收到的图像执行二次元的计算,提高了测量精度和测量效率,具有广阔的市场前景。 | ||
搜索关键词: | 快速 二次元 光学 测量 装置 | ||
【主权项】:
1.一种快速二次元光学测量装置,包括测量框架,其特征在于,测量框架的底部设有光源,待测样品位于光源上方,与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件,多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像,取像元件连接图像处理元件,测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构,所述的光源上方的测量框架上设有待测样品治具,供放置待测样品,所述的待测样品治具是在测量框架上设有治具框,治具框下部的四周边设有支撑块,支撑块下部设有支撑弹簧,与支撑块相应的治具框上部设有滑槽,支撑块一端设有滑柱,滑柱上端由滑槽内凸出于治具框,支撑块另一端设有限位柱,所述的滑槽边缘设有刻度,且刻度的大小范围与待测样品的尺寸大小相对应;所述的测量框架上设有导向杆,所述的取像元件安装在导向杆上,且沿待测样品长边方向的两个导向杆上分别设有三个取像元件,沿待测样品短边方向的两个导向杆上分别设有两个取像元件;所述的取像元件调节机构是在测量框架上设有滚珠丝杠和水平滑轨,水平滑轨上设有水平滑座,所述的导向杆固定在水平滑座上,滚珠丝杠的螺母连接水平滑座;所述的滚珠丝杠为双向丝杠,双向丝杠上均设有左旋、右旋无牙螺母,且双向丝杠的一端设有旋转把手。
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