[发明专利]一种ECR等离子体溅射装置及其溅射方法有效
| 申请号： | 201610103436.2 | 申请日： | 2016-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN105624624B | 公开（公告）日： | 2018-02-13 |
| 发明（设计）人： | 刁东风;范雪;陈成 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268 | 代理人： | 王永文,刘文求 |
| 地址： | 518060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种ECR等离子体溅射装置及其溅射方法，包括从左至右依次设置的微波发生器、等离子体室、成膜室及预真空室；所述微波发生器依次通过微波导管及石英窗与等离子体室相连；所述等离子体室的外侧设置有第一磁线圈和第二磁线圈；所述成膜室的外侧设置有第三磁线圈；所述成膜室的近等离子体室端的等离子体室右侧电子回旋共振磁场处设置有圆筒形固定靶材，所述成膜室的近预真空室端设置有基板；所述圆筒形固定靶材通过靶材电源接地。本发明通过确定成膜室中圆筒形固定靶材和基板的位置关系，在封闭和发散两种磁场模式下都能够获得稳定的等离子体，以及最好的电子和离子照射效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ecr 等离子体 溅射 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种ECR等离子体溅射装置，其特征在于，包括从左至右依次设置的微波发生器、等离子体室、成膜室及预真空室；所述微波发生器依次通过微波导管及石英窗与等离子体室相连；所述等离子体室的外侧设置有第一磁线圈和第二磁线圈；所述成膜室的外侧设置有第三磁线圈；所述成膜室的近等离子体室端的等离子体室右侧电子回旋共振磁场处设置有圆筒形固定靶材，所述成膜室的近预真空室端设置有基板；所述圆筒形固定靶材通过靶材电源接地；所述基板距所述圆筒形固定靶材15‑17.5cm；所述成膜室的近等离子体室端的等离子体室右侧电子回旋共振磁场处的磁场强度为875G；通过在第一磁线圈、第二磁线圈、第三磁线圈中施加电流，在等离子体室内形成封闭式磁场；所述基板在封闭磁场下施加正偏压，实现对电子的照射加工；通过在第一磁线圈、第二磁线圈中施加电流，在等离子体室内形成发散式磁场；所述基板在发散式磁场下施加负偏压，实现对离子的照射加工。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学，未经深圳大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610103436.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：旋压机自动进出料装置
- 下一篇：盐田晒卤喷淋装置
- 同类专利
- 专利分类
