[发明专利]曝光系统、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201610092322.2 | 申请日： | 2016-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN107092166B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 蓝科;戈亚萍;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光系统、曝光装置及曝光方法，其曝光系统包括：激光单元、光斑切换单元以及透镜单元；所述激光单元发射激光束；所述光斑切换单元，根据需曝光的加工工件材质对应的光斑尺寸，使所述激光束在不同光路之间进行切换，获得对应光斑尺寸的激光束；所述透镜单元改变所述激光束的方向；通过光斑切换单元的设置，使得激光束在不同光路之间进行切换，从而对光斑的尺寸范围进行切换，满足了不同线宽工件对光斑尺寸的不同要求，提高了对不同工件的加工适应性，有效的节约了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，其特征在于，包括：激光单元、光斑切换单元以及透镜单元；所述激光单元发射激光束；所述光斑切换单元，根据需曝光的加工工件材质对应的光斑尺寸，使所述激光束在不同光路之间进行切换，获得对应光斑尺寸的激光束；所述透镜单元改变所述激光束的方向；所述光斑切换单元包括第一光路与第二光路，所述第一光路遵循衍射极限原理，产生可调整的小于某一设定光斑临界值的第一光斑，所述第二光路遵循几何成像原理，产生可调整的大于某一设定光斑临界值的第二光斑。
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