[发明专利]光学测量装置和光学测量方法有效

专利信息
申请号: 201610091433.1 申请日: 2016-02-18
公开(公告)号: CN105973845B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 峰邑浩行;大泽贤太郎 申请(专利权)人: 日立乐金光科技株式会社
主分类号: G01N21/55 分类号: G01N21/55
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;牛孝灵
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光学测量装置和光学测量方法,抑制来自观测对象与培养容器和空气等的边界面的反射光的影响,得到观测对象的高品质的像。利用观测对象具有三维形状、边界面能够视为平面这一点,通过对参考光的光束内赋予相位或强度分布,而选择性地使来自边界面的反射光的影响衰减,从而获得高品质的OCT图像。
搜索关键词: 光学 测量 装置 测量方法
【主权项】:
1.一种光学测量装置,其特征在于,包括:出射激光的光源;使从所述光源出射的激光分束为信号光和参考光的光分束部;将所述信号光会聚在观测对象上的聚光单元;使所述参考光不为平面波,而是在所述参考光的光束内赋予与行进方向垂直的方向上的规定的相位分布和强度分布中的至少一者的单元,其中被赋予了所述规定的相位分布和强度分布中的至少一者的参考光用于与被所述观测对象反射的信号光干涉而生成被检测为1个检测信号的干涉光;使被所述观测对象反射的信号光与被赋予了所述规定的相位分布和强度分布中的至少一者的参考光合束而生成干涉光的单元;检测所述干涉光的检测器;和在改变所述信号光在所述观测对象上的聚光位置的同时,基于来自所述检测器的信号生成所述观测对象的层析图像的图像处理部。
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