[发明专利]用于增强局部电场、光吸收、光辐射、材料检测的结构以及用于制作和使用此结构的方法在审

专利信息
申请号: 201610091281.5 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN105911814A 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 斯蒂芬·Y.·周;李文迪 申请(专利权)人: 普林斯顿大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G01N27/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了微米结构和纳米结构(100),其由基片(110)、以金属碟(130)盖顶的柱体(120)的阵列、敷设在柱体的侧壁上的金属点(簇群或颗粒)(140)以及金属背板(150)组成,其能够相互作用以增强局部电场、光的吸收和光的辐射。还公开了制造结构(100)的方法。还公开了增强结构表面上的分子和其他材料的检测中的光信号(如荧光、光致发光和表面增强拉曼散射(SERS))的结构的应用。
搜索关键词: 用于 增强 局部 电场 光吸收 光辐射 材料 检测 结构 以及 制作 使用 方法
【主权项】:
一种纳米结构装置,其包括:基片;以及从所述基片的表面延伸的一个或多个柱体,其中所述柱体包括:位于所述柱体的顶部上的金属碟;位于所述柱体的底部的金属背板,所述金属背板覆盖所述基片表面的大部分;位于所述柱体的侧壁外表面上的金属点结构;其中所述装置增强置于所述装置上或附近的物质的局部电场、光吸收特性和光辐射特性,并且其中所述光的波长范围在10nm至30微米。
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