[发明专利]光阻喷涂机及其环状结构在审
| 申请号： | 201610082217.0 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN105929637A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 蔡邹佐;吴国经;蔡宗恒 | 申请（专利权）人： | 精材科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台湾桃园市中*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光阻喷涂机及其环状结构，光阻喷涂机用以对晶圆的正面喷涂光阻，且包含吸盘、导流环与定位环。吸盘具有顶面与邻接顶面的侧面。晶圆位于顶面上，且至少部分晶圆凸出于吸盘的顶面。导流环套设于吸盘，且导流环具有沟槽。凸出于顶面的晶圆覆盖导流环，且沟槽的开口朝向晶圆相对正面的背面。定位环套设于导流环，使得导流环位于定位环与吸盘的侧面之间。本发明可提升晶圆的良率，且可降低吸盘抽真空异常的机率。 | ||
| 搜索关键词： | 喷涂 及其 环状 结构 | ||
【主权项】：
一种光阻喷涂机，其特征在于，用以对一晶圆的一正面喷涂一光阻，该光阻喷涂机包含：一吸盘，具有一顶面与邻接该顶面的一侧面，该晶圆位于该顶面上，且至少部分该晶圆凸出于该吸盘的该顶面；一导流环，套设于该吸盘，且该导流环具有一沟槽，其中凸出于该顶面的该晶圆覆盖该导流环，且该沟槽的开口朝向该晶圆相对该正面的一背面；以及一定位环，套设于该导流环，使得该导流环位于该定位环与该吸盘的该侧面之间。
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