[发明专利]一种低角度依赖的蓝色SiO2胶体晶体膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种低角度依赖的蓝色SiO₂胶体晶体膜的制备方法，属于光子晶体结构色制备技术领域。取平均粒径为310±10nm SiO₂微球，配制浓度为1-3wt％的SiO₂胶体溶液，超声分散2-4h；将清洗过的基片垂直固定在超声分散的SiO₂胶体溶液中，放入干燥箱中，控制干燥时间为24-30h，干燥温度为40-65℃；采用蒸镀仪在组装好的SiO₂胶体晶体膜表面镀厚度为5-10nm的碳膜，提供了一种光吸收背景，使其在光子禁带的反射率增强，而对禁带以外波长的反射率降低，吸收了杂散光，宏观上呈色表现为低角度依赖性，呈现单一蓝色，不再是彩虹色。

主权项

一种低角度依赖的蓝色SiO₂胶体晶体膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)取平均粒径为310±10nm SiO₂微球，放入乙醇中搅拌均匀，配制浓度为1‑3wt％的SiO₂胶体溶液，超声分散2‑4h；(2)用去离子水清洗基片，然后分别在去离子水和乙醇中超声清洗30‑90min后烘干备用，将清洗过的基片垂直固定在已超声分散的SiO₂胶体溶液中，放入烘箱中24‑30h缓慢烘干得到组装好的SiO₂胶体晶体膜，烘干温度为40‑65℃；(3)将从烘箱中取出的SiO₂胶体晶体膜放入蒸镀仪中镀碳膜，使SiO₂胶体晶体膜表面的碳膜厚度为5‑10nm，即可得到单一蓝色SiO₂胶体晶体膜。