[发明专利]一种低角度依赖高饱和度红色PS胶体晶体膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610078136.3 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN105733010A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 王莉丽;王秀锋;宫在磊;王浩;江红涛 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06;C08J5/18;C08L25/06 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 段俊涛 |
| 地址： | 710021 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低角度依赖高饱和度红色PS胶体晶体膜的制备方法，属于光子晶体结构色制备技术领域。取平均粒径为440±10nm的PS微球母液，稀释为PS微球浓度为0.1wt‑0.5wt％的乳液，超声分散，将超声清洗过的基片垂直固定在PS乳液中，放入烘箱中干燥，烘干温度为40℃‑65℃；采用蒸镀仪在组装好的PS胶体晶体膜表面镀厚度为5‑10nm的碳膜，采用真空离子溅射法在碳膜表面再镀一层厚度为5‑10nm的铂金膜；碳膜提供了光吸收背景，使其在光子禁带的反射率增强，对禁带以外波长的反射率降低，吸收了杂散光，铂金膜使其在光子禁带的反射强度进一步增强，宏观上呈色表现出低角度依赖性，色饱和度显著提高，呈现绚丽的单一红色。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角度 依赖 饱和度 红色 ps 胶体 晶体 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低角度依赖高饱和度红色PS胶体晶体膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)采用乳液聚合法制备平均粒径为440±10nm的PS微球母液，以去离子水为溶剂，直接稀释为PS微球浓度为0.1wt‑0.5wt％的乳液，置于30‑100mL玻璃器皿中超声分散30‑60min。(2)用去离子水清洗基片，分别在乙醇和去离子水中超声清洗30‑90min后烘干备用，将清洗过的基片垂直固定在已超声分散的PS乳液中，放入烘箱中9‑12h缓慢烘干得到组装好的PS胶体晶体膜，烘干温度为40℃‑65℃；(3)将从烘箱中取出的PS胶体晶体膜放入蒸镀仪中镀碳膜，使PS胶体晶体膜表面的碳膜厚度为5‑10nm；(4)在已经镀过碳膜的PS胶体晶体膜表面，采用真空离子溅射法在碳膜表面再镀一层厚度为5‑10nm的铂金膜，即得低角度依赖高饱和度呈色明亮的单一红色PS胶体晶体膜。
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