[发明专利]用于自旋转矩振荡器(STO)的稳定层在审

专利信息
申请号: 201610048344.9 申请日: 2016-01-25
公开(公告)号: CN105825874A 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 五十岚万寿和;长坂惠一;冈村进;佐藤阳;佐藤雅重;椎本正人 申请(专利权)人: HGST荷兰有限公司
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127;G11B5/31;G11B5/60
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 赵晓祎;戚传江
地址: 荷兰,阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及用于自旋转矩振荡器(STO)的稳定层。在一个实施例中,一种自旋转矩振荡器(STO)包括:基准层,其具有能够自由面内旋转的磁化强度;场产生层(FGL),其包括具有实质上在膜平面中的易磁化平面的至少一个磁膜,其中FGL的磁化强度能够面内旋转;和稳定层(STL),其位于FGL的与基准层相对的一侧上,STL包括在膜平面中具有实际上易磁化平面的磁膜,其中STL的磁化强度能够面内旋转,其中STL的饱和磁化强度与STL的厚度的乘积小于FGL的磁化强度与FGL的厚度的乘积的一半。
搜索关键词: 用于 自旋 转矩 振荡器 sto 稳定
【主权项】:
一种装置,包括:主磁极,所述主磁极被定位于所述装置的面对介质表面处;以及自旋转矩振荡器(STO),所述STO被定位成邻近所述主磁极,所述STO被配置成产生高频磁场,以协助将信息存储至磁记录介质,其中,所述STO包括:场产生层(FGL),所述FGL包括在膜平面中具有实际上易磁化平面的至少一个磁膜,其中,所述FGL的磁化强度能够面内旋转;基准层,所述基准层具有能够自由面内旋转的磁化强度;以及稳定层(STL),所述STL被定位于所述FGL的与所述基准层相对的一侧上,所述STL包括在膜平面中具有实际上易磁化平面的磁膜,其中,所述STL的磁化强度能够面内旋转,并且其中,所述STL的饱和磁化强度与所述STL的厚度的乘积小于所述FGL的磁化强度与所述FGL的厚度的乘积的一半。
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