[发明专利]一种高透光自清洁聚碳酸酯片材的制备方法

摘要

本发明属于材料技术领域，具体公开了一种高透光自清洁聚碳酸酯片材及制备方法。该聚碳酸酯片材由聚碳酸酯基材和自清洁膜组成，自清洁膜表面具有微纳结构，通过将自清洁膜涂覆到聚碳酸酯基材上，确保片材具备良好的自清洁性。所述自清洁膜以聚碳酸酯和疏水纳米二氧化硅为主要原料，将二者溶于四氢呋喃溶液中，充分超声或搅拌分散，形成均匀的混合溶液；然后将混合溶液涂覆到聚碳酸酯基材上，然后置于50℃烘箱内待四氢呋喃充分烘干即得高透光自清洁聚碳酸酯片材，该片材不仅具有较高的透光性，而且具有良好的自清洁性。该片材不含氟、无添加剂、无毒、高透光、自清洁，可广泛应用于外墙装饰玻璃、安全眼镜、仪表盘、灯具外罩等领域。

主权项

1.一种高透光自清洁聚碳酸酯片材的制备方法，其特征在于：所述高透光自清洁聚碳酸酯片材是由聚碳酸酯基材及涂覆在聚碳酸酯基材上的自清洁膜制成，其中聚碳酸酯基材是厚度为0.5‑2cm的聚碳酸酯片材；所述自清洁膜是由聚碳酸酯和疏水纳米二氧化硅制备而成，所述聚碳酸酯的分子量是0.8万‑2万，所述疏水纳米二氧化硅的粒径是20 nm ‑ 40 nm；所述自清洁膜的制备方法，其步骤如下：将质量比是2：1‑5：1的聚碳酸酯和疏水纳米二氧化硅加入到四氢呋喃中；所述四氢呋喃与聚碳酸酯的质量比为1：2；超声或搅拌分散30分钟，形成混合溶液，将混合溶液以50cm/min‑200cm/min的涂覆速度涂覆在聚碳酸酯基材上，最后经真空烘干，即在聚碳酸酯基材上形成自清洁膜；所述的疏水纳米二氧化硅由质量比是3：1的亲水性气相二氧化硅与六甲基二硅胺烷经烷基化反应制得。