[发明专利]一种金属表面原位生长二氧化钛纳米阵列薄膜的制备方法在审
申请号: | 201610038380.7 | 申请日: | 2016-01-20 |
公开(公告)号: | CN105671531A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 肖帆;江光强;柳星竹;陈劲宇;姜珍兰 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 王利强 |
地址: | 310014 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属表面原位生长二氧化钛纳米阵列薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)制备处理溶液:将盐酸和无机钛盐混合,制得前驱液,再将醇加入到前驱液,充分混合均匀制成处理溶液,所述的处理溶液中钛离子摩尔浓度是0.01~0.08mol/L;(2)二氧化钛纳米阵列薄膜的沉积处理:将金属基体和处理溶液同时置于容器中,在150~200℃下反应1~6小时,反应结束后将基体取出,经去离子水清洗后,基体表面即可获得二氧化钛纳米阵列薄膜。本发明制备方法简单、反应重复性好、能直接在不规则金属基体表面制备、薄膜具有很好的生物活性。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属表面 原位 生长 氧化 纳米 阵列 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种金属表面原位生长二氧化钛纳米阵列薄膜的制备方法,其特征在于:所述的方法包括如下步骤:(1)制备处理溶液:将盐酸和无机钛盐混合,制得前驱液,再将醇加入到前驱液,充分混合均匀制成处理溶液,所述的处理溶液中钛离子摩尔浓度是0.01~0.08mol/L;(2)二氧化钛纳米阵列薄膜的沉积处理:将金属基体和处理溶液同时置于容器中,在150~200℃下反应1~6小时,反应结束后将基体取出,经去离子水清洗后,基体表面即可获得二氧化钛纳米阵列薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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