[发明专利]一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法有效
| 申请号： | 201610018273.8 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105601936B | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 莫高明;苗玉龙;钟希强;何流;陈海俊;裴学良;杨建行 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C08G77/60 | 分类号： | C08G77/60 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 单英 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法，该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗，再用氧化性酸对反应容器进行清洗，最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物，在保养反应设备的同时，减少了残留物对后续反应进程的影响，提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清除 甲基 硅烷 裂解 反应 残留物 方法 | ||
【主权项】：
一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法，其特征是：在聚二甲基硅烷裂解反应后的反应容器内首先加入可溶聚碳硅烷的有机溶剂进行清洗，然后加入氧化性酸进行清洗，最后用去离子水或蒸馏水清洗后烘干；所述的可溶聚碳硅烷的有机溶剂包括苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、环己烷、正庚烷、四氯化碳、氯仿中的一种或几种混合物；所述的氧化性酸包括质量百分数为90‑98％的浓硫酸、质量百分数为50‑70％的浓硝酸、质量百分数为60‑80％的高氯酸中的一种或几种混合物。
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