[发明专利]带电粒子束装置有效
| 申请号： | 201580084928.5 | 申请日： | 2015-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108292579B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 神宫孝广 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/28 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 范胜杰;曹鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种带电粒子束装置，其具有：照射系统，其对试样供给会聚的带电粒子束，并通过所述带电粒子束扫描所述试样；成像光学系统，其对来自所述试样的能量进行成像；检测系统，其通过雪崩光电二极管阵列检测由所述成像光学系统形成的图像；以及控制部，其根据所述能量的照射范围的移动来变更构成所述雪崩光电二极管阵列的像素中的在盖革模式下工作的像素。 | ||
| 搜索关键词： | 雪崩光电二极管阵列 成像光学系统 带电粒子束 像素 带电粒子束装置 盖革模式 检测系统 试样供给 照射系统 成像 会聚 照射 扫描 图像 变更 检测 移动 | ||
【主权项】：
1.一种带电粒子束装置，其特征在于，具有：/n照射系统，其对试样供给会聚的带电粒子束，并通过所述带电粒子束扫描所述试样；/n成像光学系统，其对来自所述试样的能量进行成像；/n检测系统，其通过雪崩光电二极管阵列来检测通过所述成像光学系统形成的图像；以及/n控制部，其根据所述能量的照射范围的移动来变更构成所述雪崩光电二极管阵列的像素中的在盖革模式下工作的像素，/n所述控制部在使所述像素在盖革模式下工作之前，对所述像素进行复位操作。/n
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