[发明专利]涂覆的反射光学元件上的表面校正在审
| 申请号： | 201580073765.0 | 申请日： | 2015-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN107111015A | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | F-J.斯蒂克尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军,王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种校正反射光学元件(1)的表面形状的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，其中，所述方法至少包括以下步骤通过在布置于基板(2)和反射涂层(3)之间的至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正所述表面形状(5)，所述至少一个可变形层具有磁性形状记忆合金，其中，通过对至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)来产生永久局部形状变化(10)。本发明还涉及包括基板(2)、反射涂层(3)和至少一个可变形层(7)的反射光学元件(1)，至少一个可变形层布置在基板(2)和反射涂层(3)之间，并具有磁性形状记忆合金。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学 元件 表面 校正 | ||
【主权项】：
一种校正反射光学元件(1)的表面形状(5)的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，其中，所述方法至少包括以下步骤：通过在至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正所述表面形状(5)，所述至少一个可变形层布置于所述基板(2)和所述反射涂层(3)之间且具有磁性形状记忆合金，其中，通过对所述至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)，来产生所述永久局部形状变化(10)。
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