[发明专利]用于X射线相衬断层合成成像的探测器和成像系统有效
| 申请号： | 201580063910.7 | 申请日： | 2015-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN106999137B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | E·勒斯尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02;A61B6/00;A61B6/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于X射线相衬断层合成成像的X射线探测器布置(10)，用于X射线相衬断层合成成像的线探测器(1)，用于X射线相衬断层合成成像的成像系统(24)，用于X射线相衬断层合成成像的方法，以及用于控制这种布置的计算机程序元件和存储了这种计算机程序元件的计算机可读介质。所述X射线探测器布置(10)包括若干线探测器(1)。每个线探测器(1)被配置为在撞击这种线探测器(1)的X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样。每个线探测器(1)包括若干探测器线(11)，其中，每个线探测器(1)的宽度W等于莫尔图样的一个周期或整数倍的周期。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 断层 合成 成像 探测器 系统 | ||
【主权项】：
一种用于X射线相衬断层合成成像的X射线探测器布置(10)，其中，所述X射线探测器布置(10)包括若干线探测器(1)；其中，每个线探测器(1)被配置为在撞击这种线探测器(1)的X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样；其中，每个线探测器(1)包括若干探测器线(11)；并且其中，每个线探测器(1)的宽度W等于所述莫尔图样的一个周期或整数倍的周期。
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