[发明专利]用于X射线相衬断层合成成像的探测器和成像系统有效
申请号: | 201580063910.7 | 申请日: | 2015-11-17 |
公开(公告)号: | CN106999137B | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | E·勒斯尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/02 | 分类号: | A61B6/02;A61B6/00;A61B6/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 射线 断层 合成 成像 探测器 系统 | ||
1.一种用于X射线相衬断层合成成像的X射线探测器布置(10),
其中,所述X射线探测器布置(10)包括若干线探测器(1);
其中,每个线探测器(1)被配置为在撞击这种线探测器(1)的X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样;
其中,每个线探测器(1)包括若干独立探测器线(11);并且
其中,每个线探测器(1)的宽度W等于所述莫尔图样的一个周期或整数倍的周期。
2.根据权利要求1所述的X射线探测器布置(10),其中,每个线探测器(1)包括八个探测器线(11)。
3.根据前述权利要求中任一项所述的X射线探测器布置(10),其中,每个探测器线(11)沿着垂直于所述X射线束(2)的对称轴A的方向被布置。
4.根据权利要求1至2中任一项所述的X射线探测器布置(10),其中,每个探测器线(11)相对于所述X射线束(2)的对称轴A倾斜一锐角α。
5.一种用于对象的X射线相衬断层合成成像的成像系统(24),包括:
-根据前述权利要求中任一项所述的X射线探测器布置(10);
-X射线源布置(12);
-光栅布置(31、32),其被配置为在所述X射线束(2)中创建莫尔图样;以及
-机架(30);
其中,所述X射线源布置(12)、所述光栅布置(31、32)和所述X射线探测器布置(10)被安装到所述机架(30)上。
6.根据权利要求5所述的成像系统(24),还包括被配置为支撑所述对象的对象支撑件(36),其中,所述成像系统被配置为将所述对象支撑件(36)和所述机架(30)相对地移动。
7.根据权利要求5所述的成像系统(24),其中,所述成像系统被配置为围绕当在所述X射线束(2)的方向上看时位于所述X射线探测器布置(10)下方的旋转轴来旋转所述机架(30)和/或对象支撑件(36)。
8.根据权利要求6所述的成像系统(24),其中,所述成像系统被配置为围绕当在所述X射线束(2)的方向上看时位于所述X射线探测器布置(10)下方的旋转轴来旋转所述机架(30)和/或所述对象支撑件(36)。
9.根据权利要求6-8中的任一项所述的成像系统(24),其中,所述成像系统被配置为在垂直于所述X射线束(2)的对称轴A的方向上平移所述机架(30)和/或所述对象支撑件(36)。
10.根据权利要求5至8中任一项所述的成像系统(24),其中,所述光栅布置包括若干光栅部件,所述若干光栅部件被配置为在所述X射线束(2)中创建莫尔图样,使得当在所述X射线束(2)的方向上看时在每个线探测器(1)的前方布置有一个光栅部件。
11.根据权利要求5至8中任一项所述的成像系统(24),其中,所述光栅布置包括一个光栅单元,所述一个光栅单元被配置为在所述X射线束(2)中创建莫尔图样,使得当在所述X射线束(2)的方向上看时所述光栅单元被布置在所有线探测器(1)的前方并同时覆盖所有线探测器(1)。
12.根据权利要求10所述的成像系统(24),其中,所述光栅部件包括相位光栅(31)和分析器光栅(32)。
13.根据权利要求11所述的成像系统(24),其中,所述光栅单元包括相位光栅(31)和分析器光栅(32)。
14.一种用于X射线相衬断层合成成像的方法,包括以下步骤:
a)提供经过X射线探测器布置(10)的X射线束;以及
b)在所述X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样,其中,所述X射线探测器布置(10)被配置为如权利要求1至4中任一项所限定的。
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