[发明专利]用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置

摘要

本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置，所述组成物具有光聚合起始剂及光可固化单体，光可固化单体包含不具有芳族烃基的单体；以及具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。通过固化所述组成物而获得的有机保护层具有由方程式1表示的约等于或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及约等于或小于2纳米的表面粗糙度。本发明的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。[方程式1]等离子体蚀刻速率＝(T0‑T1)/MT0为将所述组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米UV固化10秒制备的样品厚度；T1为制备的样品在特定条件下以等离子体处理1分钟后的厚度；M为等离子体处理的时间。

主权项

一种用于显示器密封材料的组成物，包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，以及由所述组成物制备的固化产物具有由方程式1表示的约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的约2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：<方程式1>等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0‑T1)/M(其中在方程式1中，T0为通过喷雾将所述用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行紫外线固化10秒所制备的样品以纳米(nm)为单位的厚度；T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的以纳米(nm)为单位的厚度，T0及T1各自为除去所述基板厚度后的厚度；且M为以分钟(min)为单位的所述等离子体处理的时间)。