[发明专利]用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置有效

专利信息
申请号: 201580056547.6 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN107155328B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 金惠珍;南成龙;高盛慜;金美善;李知娟 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C08F220/26 分类号: C08F220/26;C08F220/30;C08F220/10;C08F2/50;H01L51/54
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李艳;臧建明
地址: 韩国京畿道龙仁*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 显示器 密封材料 组成 含有 装置
【说明书】:

本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置,所述组成物具有光聚合起始剂及光可固化单体,光可固化单体包含不具有芳族烃基的单体;以及具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。通过固化所述组成物而获得的有机保护层具有由方程式1表示的约等于或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及约等于或小于2纳米的表面粗糙度。本发明的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。[方程式1]等离子体蚀刻速率=(T0‑T1)/MT0为将所述组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米UV固化10秒制备的样品厚度;T1为制备的样品在特定条件下以等离子体处理1分钟后的厚度;M为等离子体处理的时间。

技术领域

本发明是有关于一种用于显示器密封材料的组成物、包括其的有机保护层以及包括其的显示器装置。

背景技术

通常用于光学显示器装置的有机电致发光元件可由于环境因素(诸如湿气或气体)而遭受发光特性的退化或劣化。特定言之,金属场与有机发射层之间的介面将由于湿气而分层。另外,将由于金属氧化而出现高电阻,且有机材料本身将因湿气或氧气而劣化。此外,有机材料及电极材料将因来自外部或内部环境的释气而遭遇氧化,且有机场致发光元件可具有降低的发光特性。因此,有机场致发光元件必须用封装组成物封装以保护其免受湿气或氧气的影响。

有机场致发光元件已封装在形成有无机保护层及有机保护层的多层结构中。无机保护层可通过等离子体沉积法形成,其可导致有机保护层被等离子体蚀刻。当有机保护层被蝕刻时,可损害有机保护层的封装功能。因此,有机发光元件可遭受发光特性及可靠性的劣化。

就此方面而言,本发明的背景揭示于韩国公开专利公开案第2011-0071039 A号(LG显示器)中。

发明内容

技术问题

在一个实施例中,本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物,其获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。

在另一个实施例中,本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物,其获得具有显著低透湿性及低透氧性的有机保护层。

在又一个实施例中,本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物,其获得具有极好透明度的有机保护层。

在又一个实施例中,本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物,其获得具有低表面粗糙度以产生高表面光滑度的有机保护层。

在又一个实施例中,本发明提供一种用于显示器的组成物,其获得有机保护层来保护装置免受包含湿气及气体的环境的影响以向装置提供时间相依可靠性。

在又一个实施例中,本发明提供一种显示器装置,其包含用于显示器密封材料的组成物的固化产物。

解决问题的技术手段

在本发明的一个实施例中,用于显示器密封材料的组成物可包含光可固化单体及光聚合起始剂,其中所述光可固化单体可包含含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体;及不含芳族烃基的单体,且由所述组成物制备的固化产物可具有由方程式1表示的400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness):

[方程式1]

等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)=(T0-T1)/M

其中在方程式1中,T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米),T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(nm),T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度,且M为等离子体处理的时间(min)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580056547.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top