[发明专利]用于制造机电设备的方法及对应设备在审
申请号: | 201580056216.2 | 申请日: | 2015-11-09 |
公开(公告)号: | CN107074531A | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 若埃尔·科莱 | 申请(专利权)人: | 特罗尼克斯微系统公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B81B3/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人: | 张瑞,郑霞 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种机电设备,其特征在于其包括‑由插置在两个固体层(10,30)之间的绝缘层(31)形成的层叠件,‑悬空在预定深度的凹陷部(4)上方的预定厚度的微机械结构(60,61),所述凹陷部(4)和所述微机械结构(60,61)形成所述层叠件的所述两个固体层(10,30)之一(10),并且所述绝缘层(31)形成所述凹陷部(4)的底部。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 机电设备 方法 对应 设备 | ||
【主权项】:
一种制造机电设备的方法,所述机电设备包括悬空在预定深度的凹陷部(4)上方的预定厚度的至少一个微机械结构(60,61),其特征在于所述方法包括:‑将第一衬底(1)的第一表面(11)密封到第二衬底(2),所述第一衬底仅由固体层(10)形成,所述第二衬底(2)由至少一个固体层(20)和绝缘层(21)形成,所述第二衬底(2)的所述绝缘层(21)插置在所述第一衬底(1)与所述第二衬底(2)的所述固体层(20)之间;‑通过蚀刻与所述第一表面(11)相对的所述第一衬底(1)的第二表面(12),而在所述第一衬底(1)中形成具有所述预定厚度的所述凹陷部(4),面向所述所形成的凹陷部(4)的所述第一衬底(1)的其余部分的厚度基本上等于所述预定厚度;‑通过将所述第一衬底(1)的所述第二表面(12)密封到第三衬底(3)来封闭所述凹陷部(4),所述第三衬底由固体层(30)及与所述第一衬底(1)的所述第二表面(12)直接接触的绝缘层(31)形成;‑去除所述第二衬底(2)的所述固体层(20)和所述绝缘层(21);以及‑对所述第一衬底(1)的所述第二表面(12)执行单次蚀刻,以开启所述凹陷部(4)并形成所述微机械结构(60,61)。
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