[发明专利]薄片形成设备、测量薄片厚度的系统及测定界面的方法有效
申请号: | 201580055518.8 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN106796203B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 彼德·L·凯勒曼;阿拉·莫瑞迪亚;法兰克·辛克莱 | 申请(专利权)人: | 瓦里安半导体设备公司 |
主分类号: | G01N29/07 | 分类号: | G01N29/07;G01N29/24;G01N29/28;C30B15/00;C30B15/06;C30B15/20;C30B29/06;C30B29/64 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种薄片形成设备、测量薄片厚度的系统及测定界面的方法。薄片形成设备包含用于固持材料熔体以及置于熔体内的固体薄片的坩埚、配置于所述坩埚上方用以自所述熔体形成薄片的结晶器和邻近所述结晶器配置的超声波测量系统,所述超声波测量系统包括至少一个超声波测量装置,其包含耦合到超声波换能器的波导以导引超声波脉冲穿过所述熔体。本发明的系统可用于在几乎任何类型的晶体固化应用与玻璃和冶金应用中,测定不同材料之间的界面位置。 | ||
搜索关键词: | 薄片 形成 设备 测量 厚度 系统 测定 界面 方法 | ||
【主权项】:
一种薄片形成设备,其特征在于包括:坩埚,用于固持材料的熔体以及置于所述熔体内的所述材料的固体的薄片;结晶器,配置于所述坩埚的上方以自所述熔体形成所述薄片;以及超声波测量系统,邻近所述结晶器配置,所述超声波测量系统包括至少一个超声波测量装置,所述超声波测量装置包含耦合到超声波换能器的波导以导引超声波脉冲穿过所述熔体。
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