[发明专利]表面保护用片材有效
申请号: | 201580055315.9 | 申请日: | 2015-10-21 |
公开(公告)号: | CN107078042B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 田村和幸;奥地茂人 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/304;B32B27/00;B32B27/18;C09J7/25 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种可抑制片材剥离后的晶圆弯曲,具有充分的抗静电性能的表面保护用片材。本发明的表面保护用片材,在进行表面形成有电路的半导体晶圆的背面研磨时使用,其中,该表面保护用片材具有:基材,其由抗静电涂层及支撑膜所构成,所述抗静电涂层含有无机导电性填料与固化性树脂(A)的固化物;及粘着剂层。在延展10%时经过1分钟后的基材的应力松弛率为60%以上,基材的杨氏模量为100~2000MPa。 | ||
搜索关键词: | 表面 保护 用片材 | ||
【主权项】:
一种表面保护用片材,其在进行表面形成有电路的半导体晶圆的背面研磨时使用,其中,该表面保护用片材具有:基材,其由抗静电涂层及支撑膜所构成,所述抗静电涂层含有无机导电性填料与固化性树脂(A)的固化物;及粘着剂层,在延展10%时经过1分钟后基材的应力松弛率为60%以上,基材的杨氏模量为100~2000MPa。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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