[发明专利]用于控制在由嵌段共聚物和聚合物的混合物获得的膜中的缺陷率的方法有效
| 申请号： | 201580048764.0 | 申请日： | 2015-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN106687862B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | C.纳瓦罗;C.尼科利特;X.切瓦利耶 | 申请（专利权）人： | 阿科玛法国公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于控制在使用沉积在表面上的包括嵌段共聚物和聚合物的混合物的组合物获得的膜中的缺陷率的方法。所述聚合物包括至少一种与所述嵌段共聚物的任一嵌段中存在的单体相同的单体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 共聚物 聚合物 混合物 获得 中的 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
用于控制大的单晶表面上取向、配位数或距离的缺陷水平和改善嵌段共聚物/聚合物共混物的膜的形式的纳米结构化组装体的CDU的方法，所述共混物包括n种嵌段共聚物和m种聚合物，所述聚合物包括至少一种与所述嵌段共聚物的一个或其它嵌段中存在的单体相同的单体，所述方法包括以下步骤：‑在溶剂中的包括嵌段共聚物和聚合物的混合物。‑该混合物在表面上的沉积。‑退火
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