[发明专利]介电膜及其制造方法、显示器及其制造方法、组成物以及触控面板有效

专利信息
申请号: 201580044448.6 申请日: 2015-06-22
公开(公告)号: CN106661227B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 朱哈·连达拉;亚克·海基宁;剑倪·其玛 申请(专利权)人: 英克伦股份有限公司
主分类号: C08G77/14 分类号: C08G77/14;C08G77/20;C08G77/00;C08L83/06;G02F1/1333;H01L33/56
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 陶敏;臧建明
地址: 芬兰026*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种介电膜及其制造方法、显示器及其制造方法、组成物以及触控面板。所述制造介电膜的方法,包含提供基板,在所述基板上沉积硅氧烷起始材料及粒子,其中所述硅氧烷起始材料具有硅氧烷聚合物、硅氧烷寡聚物和/或硅烷单体,且其中所述粒子的平均粒度小于400纳米。在沉积之后,将热能和/或电磁能施加至硅氧烷粒子层以固化所述层且在所述基板上形成介电膜。形成的膜对可见光为光学透射的且透射至少80%的入射于其上的可见光,且为电绝缘的且薄层电阻为1000Ω/sq或更大。因此,本发明可解决至少一部分与已知材料相关的问题。
搜索关键词: 介电膜 及其 制造 方法 显示器 组成 以及 面板
【主权项】:
一种介电膜,包括:形成于支撑基板上的介电层,包括硅氧烷聚合物及在所述硅氧烷聚合物内且平均粒度小于1微米的粒子,其中所述介电层对可见光为光学透射的且透射至少75%的入射于其上的光,且其中所述介电层为电绝缘的且薄层电阻为1000Ω/sq或更大。
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