[发明专利]光反射膜、光反射膜的制造方法、光反射膜的装饰成型加工方法、夹层玻璃和曲面形状体在审

专利信息
申请号: 201580044240.4 申请日: 2015-08-11
公开(公告)号: CN107076888A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 森田阳明 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;B29C65/48;B32B7/02;E06B5/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 苗堃,赵雁
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供改善了拉伸成曲面形状并贴合时的拉伸部的自修复性且抗划伤性和耐光性优异的光反射膜、该光反射膜的制造方法、该光反射膜的装饰成型加工方法、夹层玻璃及曲面形状体。本发明的光反射膜是在至少具备基材膜和光反射层的光反射体上形成有自修复层的光反射膜,其特征在于,由下述式定义的所述自修复层的修复度(A)为0.02以上,进而,在所述光反射体与所述自修复层之间设有缓冲层。A=(h1‑h2)/hmax,h1在去载保持时间0秒时进行测定时的残留深度(μm),h2在去载保持时间60秒时进行测定时的残留深度(μm),hmax设定压入深度(μm)。
搜索关键词: 反射 制造 方法 装饰 成型 加工 夹层玻璃 曲面 形状
【主权项】:
一种光反射膜,其特征在于,是在至少具备基材膜和光反射层的光反射体上形成有自修复层的光反射膜,由下述式定义的所述自修复层的修复度(A)为0.02以上,进而,在所述光反射体与所述自修复层之间设有缓冲层,A=(h1-h2)/hmaxh1:在去载保持时间0秒时进行测定时的残留深度(μm)h2:在去载保持时间60秒时进行测定时的残留深度(μm)hmax:设定压入深度(μm)。
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