[发明专利]重复缺陷检测有效
| 申请号： | 201580042985.7 | 申请日： | 2015-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN106662538B | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 陈宏;肯翁·吴;尤金·希夫林;山冈正年;甘加达尔恩·西瓦拉曼;拉加·巴布尔纳特;萨蒂亚·库拉达;阿方索·孙 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于检测晶片上的缺陷的系统及方法。一种方法包含从通过运用检验系统扫描晶片产生的帧图像，产生所述晶片上的裸片中的阵列区域的至少一部分的测试图像。所述方法还包含从通过所述扫描所述晶片而产生的帧图像，产生所述阵列区域中的单元的参考图像。此外，所述方法包含通过从对应于所述裸片中的所述阵列区域的至少所述部分中的至少一个单元的所述测试图像的部分减去所述参考图像，确定所述至少一个单元的差异图像。所述方法进一步包含基于所述差异图像在所述至少一个单元中检测所述晶片上的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 重复 缺陷 检测 | ||
【主权项】：
一种用于检测晶片上的缺陷的计算机实施方法，其包括：从通过运用检验系统扫描晶片产生的一或多个帧图像，产生所述晶片上的一或多个裸片中的阵列区域的至少一部分的一或多个测试图像；从通过所述运用所述检验系统扫描所述晶片产生的所述帧图像中的两者或更多者，产生所述阵列区域中的一或多个单元的参考图像；通过从对应于所述一或多个裸片中的所述阵列区域的至少所述部分中的至少一个单元的所述一或多个测试图像的一或多个部分减去所述参考图像而确定所述至少一个单元的一或多个差异图像；及基于针对所述至少一个单元确定的所述一或多个差异图像在所述至少一个单元中检测所述晶片上的缺陷，其中运用计算机系统执行所述产生所述一或多个测试图像、所述产生所述参考图像、所述确定所述一或多个差异图像及所述检测所述缺陷。
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