[发明专利]吡唑衍生物的制造方法在审
申请号: | 201580040364.5 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN107074845A | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 佐藤勉;工藤高志;岩间哲男 | 申请(专利权)人: | 持田制药株式会社 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;C07D213/73;C07D401/14;C07D403/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 郭煜,鲁炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请发明提供制造式(I)的化合物的方法。由此,提供4‑杂芳基‑N‑(2‑苯基‑[1,2,4]三唑并[1,5‑a]吡啶‑7‑基)‑1H‑吡唑‑5‑甲酰胺衍生物的制造方法和该制造方法的中间体。[化学式217]。 | ||
搜索关键词: | 吡唑 衍生物 制造 方法 | ||
【主权项】:
制造下述式(I)的化合物的方法,所述方法包括下述阶段:在0℃至反应溶液回流的温度下使式(ET‑1)所示的化合物和氨水溶液进行反应,得到式(AD‑1)所示的化合物,接着,在N,N‑二甲基‑1,2‑乙二胺、碘化亚铜、以及选自碳酸钾、磷酸钾中的无机碱的存在下,使用选自1,4‑二噁烷、四氢呋喃、1,2‑二甲氧基乙烷中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(AD‑1)、和式(PY‑1)所示的2‑氨基‑4‑碘吡啶衍生物进行反应,得到式(AD‑2)所示的化合物,接着,使用选自二甲基亚砜和吡啶中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(AD‑2)、以及式(IM‑1)所示的化合物、或其盐进行反应,得到式(AD‑3)所示的化合物,接着,在选自碘化亚铜(CuI)或氯化亚铜(CuCl)中的铜试剂的存在下,使用选自二甲基亚砜、N‑甲基吡咯烷酮中的不参与反应的溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(AD‑3)进行环化反应,由此,得到所述式(I)所示的化合物,[化学式176][式(I)中,p表示0~3的整数;q表示0~2的整数;R1各自独立地表示任意地选自卤素原子、氰基、C1~6烷基、C3~8环烷基、卤代C1~6烷基、C2~6烯基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、羟基C1~6烷基、和C2~7烷酰基中的基团;R2表示C1~6烷基;R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团;R4各自独立地表示任意地选自卤素原子、C1~6烷基、和C1~6烷氧基中的基团;[化学式177]式(II)所示的环A基表示任意地选自噻唑‑2‑基、噻唑‑4‑基、1‑甲基‑1H‑咪唑‑4‑基、1,3,4‑噻二唑‑2‑基、1,2,4‑噻二唑‑5‑基、吡啶‑2‑基、哒嗪‑3‑基、嘧啶‑2‑基、嘧啶‑4‑基、和吡嗪‑2‑基中的单环式5~6元杂芳基];[化学式178][式(ET‑1)中,p、R1、R2、和式(II)所示的环A基表示与权利要求1的式(I)中的定义相同的含义;RD表示任意地选自C1~6烷基、C6~14芳基和C7~20芳烷基中的基团];[化学式179][式(AD‑1)中,p、R1、R2和式(II)所示的环A基与权利要求1的式(I)中的定义相同];[化学式180][式(PY‑1)中,R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团];[化学式181][式(AD‑2)中,p、R1、R2、R3、和式(II)所示的环A基与权利要求1的式(I)中的定义相同];[化学式182][式(IM‑1)中,q、R4与权利要求1的式(I)中的定义相同;RB表示C1~6烷基];[化学式183][式(AD‑3)中,p、q、R1、R2、R3、R4、和式(II)所示的环A基与权利要求1的式(I)中的定义相同]。
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