[发明专利]基于银合金的溅射靶有效
申请号: | 201580039358.8 | 申请日: | 2015-07-10 |
公开(公告)号: | CN106661720B | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | M.施洛特;A.赫佐格;T.肖勒;U.科尼茨卡 | 申请(专利权)人: | 万腾荣高新材料德国有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/14 | 分类号: | C23C14/14;C22C5/06;C23C14/34 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种溅射靶,其包含银合金,所述银合金基于银合金的总量包含5至25‑重量%的钯,并且具有在25至90μm范围内的平均颗粒尺寸。 | ||
搜索关键词: | 基于 合金 溅射 | ||
【主权项】:
1.一种溅射靶,其包含银合金‑所述银合金基于银合金的总量包含5至25‑重量%的钯,并且‑如果在银合金中存在其他金属元素,则所述其他金属元素的总和在数量上小于0.5‑重量%,‑具有在25至90μm范围内的平均颗粒尺寸,‑其中,所述银合金具有小于15%的颗粒尺寸的变化,和‑所述银合金的颗粒具有至少为60%的平均轴长比。
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